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製品

個別温度制御機能を備えた並列合成ガラス反応器

簡単な説明:

これは、sシングル合成またはパラレル合成実験計画、プロセス開発、スケールアップ、経路探索、結晶化研究、多結晶スクリーニングリード最適化、反応最適化、試薬、触媒、溶媒のスクリーニング。


  • 音量:5~1000ml
  • 撹拌方法:強力な磁気攪拌+機械攪拌
  • 反応ワークステーション:ワークステーション1台/ワークステーション2台/ワークステーション3台/ワークステーション4台/ワークステーション5台(ワークステーション4台在庫あり)。
  • 温度制御範囲:-40~250℃
  • 磁気攪拌速度範囲:100~1500rpm
  • 機械式撹拌機の速度範囲:100~1500rpm
  • 機械攪拌のタイミング範囲:1秒~9999時間
  • 製品詳細

    商品タグ

    具体的な仕様パラメータ

    撹拌方法:強力磁気撹拌+機械撹拌

    反応ワークステーション:1ワークステーション/2ワークステーション/3ワークステーション/4ワークステーション/5ワークステーション(4ワークステーション在庫あり)。

    ワークステーションあたりの合成容量:5~1000ml 1000ml未満の容量の場合は、サポート用金属モジュールを使用する必要があります。最大容量は1000mlです。

    特徴 5、反応器:1000mL 分割型反応器(ケトル本体とケトル蓋が別々に設計されています)を装備し、金属モジュール、500ml、300ml、250ml、200ml、100ml、50mL、25mL、10mL の高ホウケイ酸ガラス反応管(大気圧および加圧反応管を構成可能)を装備できます。

    機能6、温度制御の変動性(3種類の温度制御方式):

    1: 低温循環制御 (1000ml リアクター測定、外部の低温循環ポンプ状態温度制御、金属サンドイッチ温度制御状態を制御): ± 1 ℃、低温モジュールは水道水に接続され、材料の急速冷却を実現します。

    2:電気加熱温度制御(1000ml反応器で測定、低温サイクル状態の温度制御なし、材料制御状態を含む):±1℃

    3:低温サイクルプログラム温度制御(1000ml反応器で測定、ジャケットと内部温度制御状態を含む高温と低温を統合した機械の状態下での温度制御):±1℃。

    温度制御表示精度0.1℃,温度制御範囲:-40~250℃,マグネチックスターラーの回転速度範囲:100~1500rpm

    多機能LCDスクリーン搭載メカニカルスターラー、速度範囲:100~1500rpm、LCDスクリーン4.5インチカラー多機能構成のメカニカルスターラー。

    機械攪拌速度設定範囲:100~1500rpm、精度:±0.1rpm、機械攪拌時間範囲:1秒~9999時間。

    熱電対のみを使用した機械攪拌では、500度以内の任意の温度測定が可能です。機械攪拌にはキーロック機能があり、ロック画面後はパラメータを調整できません。

    機械式撹拌機の設計:撹拌機には直径7mm以下の撹拌棒を取り付けることができ、ロッドを通して取り付けることが可能です。また、PTFE製の撹拌プラグを使用することで、真空状態およびガス充填状態での撹拌に使用できます。

    温度設定と表示:LCDディスプレイ、つまみによる温度調整。

    撹拌設定と表示:ノブとLCDディスプレイによる設定、冷却水接続部外径:10mm

    各反応ユニットごとに独立した温度制御設計:コンピュータとの接続用にRS232インターフェースを搭載。

    寸法:800 x 350 x 320mm、重量:34kg。

    電源:国内仕様:12A、220Vまたは110V、2760W(定格電力)


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