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製品

固定床触媒評価装置

簡単な説明:


  • 触媒担持容量:100ml、50ml、30ml
  • H2ガス流量:流量:0~500ml/分、制御精度:±1%
  • N2ガス流量:流量:0~500ml/分、制御精度:±1%
  • 液体給餌量:0~10ml/分、制御精度:±1%
  • 反応圧力:0~9MPa、制御精度:±1%
  • 設計圧力:10MPa、制御精度:±1%
  • 反応温度:室温~500℃、温度制御精度±1℃。
  • 設計温度:550℃、制御精度:±1℃。
  • 製品詳細

    商品タグ

    概要

    固定床触媒評価装置は、2つのガス入口と1つの液体入口を備えており、ガス入口はガス質量流量コントローラーで精密に制御され、液体入口は精密計量ポンプで制御されます。この装置は、100ml、50ml、30mlの異なる負荷容量を実現できる3つのサイズの反応器を備えた反応器を採用しており、実験負荷の柔軟性を高めています。反応器は、予熱部、定温部、保温部に分かれており、反応に必要な定温ゾーンの安定性を確保するために5つの温度制御セクションを備えた開放型加熱炉となっています。予熱部は原料の予熱を実現し、定温部の放熱をバランスさせて定温ゾーンの安定性を確保します。定温部は触媒が定温領域で反応することを保証し、保温部は定温部の放熱をバランスさせて定温ゾーンの安定性を確保します。凝縮分離システムは、自動液面制御と自動ガス排出を採用しています。

    装置のフレームは、標準的なアルミニウム合金形材でできています。
    本装置は、機器および作業者の安全を確保するために、多層的な保護システムを備えています。
    この装置は、さまざまな実験条件、さまざまな供給量、およびさまざまな触媒充填量での評価および研究に適しています。

    デバイスのプロセス操作手順および部品の説明

    デバイスの製造工程フローは、添付の図に詳細に示されています。

    この装置のプロセスオイルは、ガス供給システム、液体供給システム、反応システム、凝縮および分離システム、液面制御および回収システム、自動排気および計量システムの6つのシステムで構成されています。





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