रासायनिक उच्च दाब ग्लास रिएक्टर
विवरण
रसायन विज्ञान और रासायनिक उद्योग में उच्च तापमान, उच्च दबाव और नकारात्मक दबाव के तहत संश्लेषण प्रतिक्रिया या उत्प्रेरक प्रतिक्रिया के लिए इसका उपयोग किया जाता है, इसके लिए दबाव, तापमान, घूर्णी गति और अक्रिय गैस मिलाने की प्रतिक्रिया को एक ही समय में मापना आवश्यक है, और ऑनलाइन नमूनाकरण जैसी स्थितियों के तहत प्रयोगात्मक वातावरण को साकार करना आवश्यक है।
अनुप्रयोग के उदाहरण: एकल क्रिस्टल अभिक्रिया के जलतापीय संश्लेषण, कार्बन डाइऑक्साइड CO2 के अपचयन, कार्बन डाइऑक्साइड CO2 का मेथनॉल में अपचयन, कार्बन डाइऑक्साइड CO2 का मीथेन CH4 में अपचयन, नाइट्रोजन ऑक्साइड NOx के अपचयन और निम्नीकरण, फॉर्मेल्डिहाइड के उच्च दाब वाले फोटोकैटलिटिक निम्नीकरण और अन्य क्षेत्रों में उपयुक्त। उत्प्रेरक अभिक्रिया, फिशर-ट्रॉप्स अभिक्रिया, हाइड्रोजनीकरण अभिक्रिया, बहुलकीकरण अभिक्रिया आदि।
तकनीकी मापदंड
| डिजाइन वॉल्यूम | 25 मिली, 50 मिली, 100 मिली, 200 मिली, 500 मिली, 1000 मिली और अन्य वैकल्पिक प्रकार। |
| केतली के शरीर की सामग्री | नीलम और आयातित क्वार्ट्ज ग्लास (वैकल्पिक), |
| डिजाइन कार्य तापमान | 150℃/250℃ (वैकल्पिक), |
| कार्य का दबाव | ≤19.9Mpa (नीलम), |
| कार्य का दबाव | ≤9.9Mpa (क्वार्ट्ज ग्लास), |
| वाल्व और कनेक्शन सामग्री | SU316L स्टेनलेस स्टील से निर्मित, तापमान नियंत्रण तापन उपकरण और कंप्यूटर प्रोग्राम आधारित ऊष्मा स्थानांतरण डिज़ाइन से युक्त। गैस प्रवेश और निकास की सुविधा। ऑनलाइन दबाव प्रदर्शन की सुविधा। तल में शक्तिशाली चुंबकीय सरगर्मी की सुविधा (उच्च श्यानता या बड़े कणों वाले ठोस पदार्थों के मामले में, हमारी कंपनी की ऊपरी यांत्रिक सरगर्मी विधि का उपयोग किया जा सकता है)। उच्च परिशुद्धता समायोज्य स्वचालित अतिदबाव राहत सुरक्षा सुविधा से युक्त। |
